描述
产品编号: WT-SG-029
CAS: 7783-54-2
产品纯度：3N~5N
包装规格：4L/8L/10L/40L/47L/50L
产品形态：气态
主要用途：三氟化氮 (NF3)：用于半导体工业中的等离子体刻蚀。
江西核研院新材料有限公司
产品编号: WT-SG-029
CAS: 7783-54-2
产品纯度：3N~5N
包装规格： 4L/8L/10L/40L/47L/50L
产品形态：气态
主要用途：三氟化氮 (NF3)：用于半导体工业中的等离子体刻蚀。
产品编号: WT-SG-029
CAS: 7783-54-2
产品纯度：3N~5N
包装规格：4L/8L/10L/40L/47L/50L
产品形态：气态
主要用途：三氟化氮 (NF3)：用于半导体工业中的等离子体刻蚀。
